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揭秘光刻膠產(chǎn)業(yè),打破美日壟斷《光刻膠研究框架》

來(lái)源:方正證券      編輯:創(chuàng)澤      時(shí)間:2021/5/30      主題:其他   [加盟]

光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、 X射線等照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。光刻膠目前被廣泛用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路加工制作, 約占IC制造材料總成本的4%,是重要的半導(dǎo)體材料。

從光刻膠的基本構(gòu)成、下游應(yīng)用、發(fā)展歷程和行業(yè)格局等多方面還原這種重要的半導(dǎo)體材料的現(xiàn)狀。

光刻膠是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最重要的材料之一,一般由由感光樹(shù)脂(聚合劑)、增感劑(光引發(fā)劑)、溶劑與助劑構(gòu)成。



附件:揭秘光刻膠產(chǎn)業(yè),打破美日壟斷《光刻膠研究框架》






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